Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения - Л. А. Сейдман

Скачать книгу: https://go.wmlogs.com/yti/NIDDINjRodHRwczovL3d3dy5saXRyZXMucnUvNDUyNzM1MTEvP2xmcm9tPTI5MDI0OIDM
Читать онлайн: https://go.wmlogs.com/yti/PQZZQPTFodHRwczovL3d3dy5saXRyZXMucnUvcGFnZXMvcXVpY2tyZWFkLz9hcnQ9NDUyNzM1MTEmc2tpbj1ub3JtYWwmbGZyb209MjkwMjQ4MjY0Jmw9MjkwMjQ4MjY0JndpZGdldD0xLjAwJmlmcmFtmcm

Если читали книгу - поделитесь, пожалуйста, своими впечатлениями о книге.


Тип книги: book ( Книга / Аудиокнига )
Категория книги: техническая литература
Год издания: 2018
Паблишер: Техносфера
Серии:

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10 11 –10 12 см –3 ), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10 –2 ÷ 10 –1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого – систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Ссылка на книгу » https://go.wmlogs.com/yti/NIDDINjRodHRwczovL3d3dy5saXRyZXMucnUvNDUyNzM1MTEvP2xmcm9tPTI5MDI0OIDM
Читать онлайн: https://go.wmlogs.com/yti/PQZZQPTFodHRwczovL3d3dy5saXRyZXMucnUvcGFnZXMvcXVpY2tyZWFkLz9hcnQ9NDUyNzM1MTEmc2tpbj1ub3JtYWwmbGZyb209MjkwMjQ4MjY0Jmw9MjkwMjQ4MjY0JndpZGdldD0xLjAwJmlmcmFtmcm
Скачать книгу: https://go.wmlogs.com/yti/NIDDINjRodHRwczovL3d3dy5saXRyZXMucnUvZ2V0dHJpYWwvP2FydD00NTI3MzUxMSZmb3JtYXQ9dHh0Jmxmcm9tPTI5MDI0OIDM

#техническая #литература #Индуктивные #источники #высокоплотной #плазмы #технологические #применения #book #Сейдман #Техносфера #книги #библиотека #2024 #скачать_книгу #читать_онлайн #техническая_литература #технические_справочники